تراشه کرین ۹۰۱۰ با لیتوگرافی سه‌نانومتری ساخته می‌شود

تراشه کرین ۹۰۱۰ با لیتوگرافی سه‌نانومتری ساخته می‌شود

براساس گزارش رسانه‌ی خبری GSMArena، های‌سیلیکون، از زیرمجموعه‌های هواوی، برای تولید تراشه‌ی نسل بعدی خود آماده می‌شود. این اطلاعات را افشاگری با حساب کاربری RODENT950 در شبکه‌ی اجتماعی ویبو، شبکه‌ای شبیه به توییتر در چین، منتشر کرده است و در پست‌های خود توضیحاتی درباره‌ی تراشه‌ی نسل بعدی های‌سیلیکون ارائه می‌دهد.

به‌گفته‌ی افشاگر چینی، تراشه‌ی نسل بعدی هواوی موسوم به کرین ۹۰۱۰ با استفاده از لیتوگرافی سه‌نانومتری تولید خواهد شد. های‌سیلیکون فقط وظیفه‌ی طراحی آن را دارد و درواقع، هواوی تولید انبوه تراشه‌ی مدنظر را به شرکت TSMC خواهد سپرد.

برنامه‌های TSMC چندی پیش در فضای مجازی قرار گرفت و در آن، اشاره شد شرکت تایوانی در نیمه‌ی دوم سال ۲۰۲۲ تولید انبوه تراشه‌ها با لیتوگرافی سه‌نانومتری را آغاز می‌کند. تراشه‌هایی با لیتوگرافی سه‌نانومتری از معماری بسیار جالبی برخوردار هستند. درحقیقت، چنین تراشه‌هایی در‌مقایسه‌با مدل‌های پنج‌نانومتری فعلی می‌توانند در فضای مشخص از مدل‌های پیشین تا ۷۰ درصد از ترانزیستورهای بیشتری میزبانی کنند. 

مشخصات تراشه ها با لیتوگرافی 3 نانومتری

چنین اتفاقی در حالی رقم می‌خورد که تراشه‌های پیشرفته‌ی امروزی ممکن است از بیش از ده‌میلیارد ترانزیستور برخوردار باشند. درحقیقت، تراشه‌های آینده با لیتوگرافی سه‌نانومتری از بیش از هفده‌میلیارد ترانزیستور استفاده خواهند کرد که رقمی حیرت‌آور به‌نظر می‌رسد. تحلیلگران معتقد هستند تراشه‌هایی با فرایند ساخت لیتوگرافی سه‌نانومتری در‌مقایسه‌با مدل‌های فعلی ۱۰ تا ۱۵ درصدی و در مصرف انرژی ۲۵ تا ۳۰ درصد بهتر عمل می‌کنند.

مقاله‌های مرتبط:

طبیعتا کوچک‌ترشدن تراشه نیز به اشغال فضای کمتری از مادربرد کمک می‌کند و شرکت‌های سازنده می‌توانند فضای بیشتری برای باتری در نظر بگیرند یا گوشی‌های هوشمندی با ضخامت بسیار کمتری بسازند. مدل‌های سری پی ۵۰ هواوی ازجمله محصولاتی هستند که انتظار می‌رود به تراشه‌ی کرین ۹۰۱۰ مجهز باشند. ناگفته نماند امکان دارد هواوی از تراشه‌ی کرین ۹۰۱۰ در محصولات دیگری، ازجمله سری میت استفاده کند. هنوز برای حدس‌زدن بسیار زود است و حداقل هجده ماه تا زمان رونمایی تراشه‌ی کرین ۹۰۱۰ فاصله داریم.